算力芯片竞速时代,CoWoS 先进封装之TCB贴装迎来新解法

2026年9月,SEMICON Taiwan异质整合全球峰会上,台积电再度明确产业主线:芯片性能提升的重心,正从单芯片制程微缩转向2.5D/3D Chiplet异质集成。


此外,台积电联合日月光成立3DIC先进封装制造联盟,传递出清晰信号 —— 摩尔定律的制程微缩红利逐步收窄,先进封装与异质集成,已经成为算力持续跃升的核心路径。


AI芯片时代,在2.5D封装路线中,CoWoS是支撑高算力芯片的核心方案。


CoWoS(Chip on Wafer on Substrate)高速贴装是2.5D先进封装的核心工序:将GPU/逻辑裸片、HBM内存裸片高速高精度贴合至12英寸硅中介层晶圆,行业主流采用TCB热压键合工艺 —— 这也是决定CoWoS量产良率最关键的芯片贴装环节。


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CoWoS量产良率面临多重挑战

CoWoS先进封装过程中,传统回流焊难以适配微凸点的高精度与互连可靠性要求。


TCB热压键合是实现高密度微凸点互连的核心工艺。伴随裸片持续减薄、硅中介层尺寸增大、凸点间距不断缩小,工艺多物理场耦合特性愈发复杂,量产阶段多重挑战相互叠加,GPU、HBM、硅中介层任一环节失效,整套器件直接报废。大尺寸超薄中介层带来的力学难题,成为CoWoS量产路上最大的阻碍。


CoWoS 量产面临多重耦合工艺挑战:

  • 超薄裸片抗弯性差,压力过载易崩边、产生裂纹;

  • 大尺寸中介层受压易应力集中,良率风险高;

  • 多材料热膨胀差异引发动态翘曲,需要Z轴升降+R轴微小角度同步纠偏;

  • 热场不均易造成芯片倾斜、焊球桥接、互连空洞;

  • 锡球熔融阶段力学突变,极易出现芯片移位;


TCB热压键合工艺通过局部加热与压力精准调控,在细间距下构建稳定金属互连,抑制焊球桥接与芯片翘曲,直接决定互连带宽密度与信号完整性,决定着CoWoS芯片性能的上限。


面向CoWoS乃至下一代CoWoS+CPO异构封装的TCB热压键合需求。国奥科技基于“一体式直线旋转电机”技术,自研直线旋转固晶模组(Linear Rotary Bond-Head,又称ZR加热模组),依托微米级对位、精准温控、高动态力控三大核心能力,为TCB热压键合设备提供国产化核心解决方案。


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国奥科技ZR加热模组五大核心优势

国奥科技ZR加热模组采用“ZR一体化直驱架构”,将直线升降、旋转纠偏、加热、高动态力控集成在单一模组内,摒弃传统分体堆叠结构,从底层解决TCB工艺多维度约束。


1、高精度力控,软着陆,保障超薄裸片良率



力控是TCB量产良率的核心,压力不当易引发裸片碎裂或互连失效。


ZR加热模组提供差异化配置,部分型号搭载双Z轴协同架构:大Z轴实现大行程大推力,小Z轴负责高精度力控与微米级定位;支持开环/闭环力控模式,解决高速、大行程与高精度难以兼顾的行业痛点。


并且,所有机型可依托电流反馈实时监测压力,让TCB贴装成为可预测、可复现的稳定工艺,保护超薄裸片贴装良率。


2、微米级ZR双轴协同对位,动态补偿翘曲形变



直线重复定位精度达±2μm,旋转重复定位精度 ±0.01°,径向偏摆控制在±1μm以内,稳定维持贴装头的运动精度。


配合高分辨率视觉对位系统,有效缩减芯片与中介层之间的水平对位误差,动态抑制芯片位移,实现微凸点均匀可靠互连。


3、高精度温控,陶瓷导热结构,确保稳定的热场



温控范围RT~450℃,支持±0.01℃/s快速升温,精准控热、缩短键合周期;控温精度±1℃,贴装头底部陶瓷导热结构保证导热均匀,稳定的热场避免局部温差带来的芯片倾斜、移位等问题。


4、紧凑结构,支持多模组并排组合,提升效率



传统TCB热压多为单头,单次仅贴装一颗芯片,效率远低于回流焊,分体部件体积大、占地成本高。国奥 ZR加热模组体积小、重量轻,支持多电机阵列排布,多头并行可同时贴装多颗芯片,产线布局灵活,大幅提升整线产能。


5、模块化设计,工艺参数可编程



支持快换贴装头,单机可切换不同尺寸裸片与元件,适配基板级、晶圆级封装,提升设备复用性,降低产线成本。同时,接触速度、贴装压力、保压时长等参数独立可编程,部分机型可定制加热模块,快速适配各类芯片材料、凸点规格与工艺配方,适配多元封装场景。

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国产先进封装设备破局之路

▲国奥科技产品家族图


当单芯片制程微缩的边际收益见顶,先进封装已经成为算力突破的主战场。在高密度Chiplet时代,谁能够把“轻柔、精准、稳定地贴放每一颗芯片”做到量产级稳定,谁就掌握了先进封装落地量产的关键钥匙。


国奥科技ZR加热模组以自研“ZR执行单元+温控系统+力控系统”一体化模组交付,可直接替代进口贴装头,缩短零部件交付周期,降低核心硬件采购成本,助力国产封装设备导入CoWoS级高端产线。


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